Согласно сообщению CNews, основанному на консолидированной информации «Роснано» и голландского разработчика технологии безмасочной литографии Mapper Lithography, российская корпорация инвестирует в перспективный стартап 40 млн. евро. Также инвестиции будут сделаны действующими акционерами и рядом государственных и коммерческих фондов. Общая сумма вложений составит 80 млн. евро.
Компания была основана в Делфтском техническом университете с целью разработки оборудования для литографии на основе технологии множественных электронных лучей, которая является альтернативой фотолитографии, ныне используемой при производстве подложек микросхем. Новая технология позволит производить около 100 подложек в час, разрешающая способность 22 нм, при этом будет соответствовать ныне применяемому в микроэлектронике топологическому стандарту 14 нм и 10 нм.
Инвестиции Mapper использует для выпуска оборудования Matrix нескольких поколений, обрабатывающих от 1 до 100 подложек в час. Модель Matrix 1.1предполагается выпустить уже в этом году. В дальнейшем компания намерена расширять производственные мощности и довести их до выпуска 20 литографических машин в год. Ожидается, что одно из предприятий будет создано в России.
